师资

邓辉
助理教授
dengh@sustech.edu.cn
邓辉,博士生导师,等离子体先进制造实验室负责人。本科毕业于华中科技大学(2010年),此后获得日本住友电工财团及日本学术振兴会资助,在日本大阪大学攻读硕士和博士学位(2016年)。2016年加入新加坡制造技术研究院担任科学家职位;2017年加入南方科技大学任助理教授,建立"等离子体先进制造实验室-APMLab"。实验室研究工作主要围绕原子级超精密制造这一重要领域的发展需求,立足非应力式材料去除原理、原子级表面创成原理、超精密表面制造的量化控制与预测等前沿科学问题,以等离子体作为核心技术手段,开展面向半导体、陶瓷和金属材料的原子及近原子级表面制造关键技术研究。
 
 研究领域:
l 原子选择刻蚀技术
l 原子迁移制造技术
l 等离子体超精密加工技术
 
教育经历:
◆ 2013年4月~2016年3月:大阪大学(日本),精密科学与技术专业,博士
◆ 2011年4月~2013年3月:大阪大学(日本),精密科学与技术专业,硕士
◆ 2010年8月~2011年3月:大阪大学(日本),超精密科学研究中心,实验助理
◆ 2006年9月~2010年6月:华中科技大学,机械设计制造及其自动化专业,学士

工作经历:
◆ 2017年7月~至今:南方科技大学,机械与能源工程系,助理教授(副研究员)
◆ 2016年3月~2017年6月:新加坡制造技术研究院(SIMTech),科学家
◆ 2013年4月~2016年3月:日本学术振兴会(JSPS),青年研究员
 
所获荣誉:
◆ 2016年9月:国际光学工程学会(SPIE)颁发的Rudolf Kingslake Award

◆ 2015年2月:中国留学基金委颁发的国家优秀海外留学生奖
◆ 2014年10月:第十届中日超精密加工国际会议(CJUPM2014)最佳报告奖
◆ 2014年6月:日本机床技术振兴协会颁发的机床技术振兴奖
◆ 2014年5月:日本马扎克财团(Mazak)颁发的杰出论文奖
◆ 2013年11月:日本磨粒技术协会颁发的最佳报告奖
◆ 2013年3月:第九届中日超精密加工国际会议(CJUPM2013)优秀学生奖
◆ 2012年9月:第十届加工技术进展国际会议(ICPMT2012)最佳报告奖
◆ 2011年11月:第四届亚洲精密工程与纳米技术国际会议(ASPEN2011)最佳论文奖

 
代表性学术论文:
(1) Z. Fang, Y. Zhang, R. Li, Y. Liang and H. Deng*: An efficient approach for atomic-scale polishing of single-crystal silicon via plasma-based atom-selective etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 159 (2020) 103649. (封面论文)
(2) R. Yi, Y. Zhang, X. Zhang, F. Fang and H. Deng*: A Generic Approach of Polishing Metals via Isotropic Electrochemical Etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 150 (2020) 103517.
(3) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura: Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing, International Journal of Machine Tools and Manufacture 155 (2017) 38-46.
(4) H. Luo, K. Ajmal, W. Liu, K. Yamamura, H. Deng*: Atomic-scale and damage-free polishing of single crystal diamond enhanced by atmospheric pressure inductively coupled plasma; Carbon 182 (2021) 175-184.
(5) 吉建伟,山村和也,邓辉*:面向单晶SiC原子级表面制造的等离子体辅助抛光技术; 物理学报 70 (2021) 068102. (邀稿)
(6) H. Luo, K. Ajmal, W. Liu, K. Yamamura and H. Deng*: Polishing and planarization of single crystal diamonds: state-of-the-art and perspectives; International Journal of Extreme Manufacturing 3 (2021) 022003.
(7) X. Zhou, F. Wang, X. Zhang* and H. Deng*: Electrochemical polishing of microfluidic moulds made of tungsten using a bi-layer electrolyte; Journal of Materials Processing Technology 292 (2021) 117055.
(8) Y. Zhang, R. Li, Y. Zhang, D. Liu and H. Deng*: Indiscriminate Revelation of Dislocations in Single Crystal SiC by Inductively Coupled Plasma Etching, Journal of the European Ceramic Society 39 (2019) 2831-2839.
(9) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura*: Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface, CIRP Annals-Manufacturing Technology 64 (2015) 531-534.
(10) H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo and K. Yamamura*: Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for high effective planarization of 4H-SiC, CIRP Annals-Manufacturing Technology 63 (2014) 529-532.
 
其他内容:

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